第九五六章 研发极紫外光（1 / 3）

前世虽然Nikon凭借技术实力和资金实力先后研制成功F2准分子激光器和浸没式光刻技术，生产成功浸没式光刻机，但半导体产业更新换代迅速，导致Nikon光刻机的可靠性能始终落后于ASML，从此，全球高端光刻机龙头Nikon逐渐败给了全球光刻机新霸主ASML。

前世由于ASML独有的EUV光源无人能够研制，国内光刻机光源生产公司的技术没有竞争力，以美国为首的西方国家并没有限制ArF准分子激光器和ArFi准分子激光器的出口。

BSEC可以直接进口市场价45五万美元一台的GCA牌ArF准分子激光器，购买蔡司公司生产的光学系统，进口6英寸晶圆，加上独创的光刻机磁悬浮式双工作台系统，就能生产1um制程工艺的光刻机，虽然6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线是西方国家淘汰的生产线，但在国内还大有市场。

BSEC就可以活下来！

理想很美好，但现实很骨感，BSEC就是能制造1um制程工艺的光刻机，不代表能生产6英寸晶圆、1um制程工艺的半导体生产线！

国内缺乏半导体生产线设备的全产业链，如今都压在了BSEC的肩上。

BSEC生产的1um制程工艺的光刻机也没有晶圆公司会用！

谁投资谁倒霉，这就是“造不如买、买不如租”的主要原因！

好在193nm波长的世界性光学难题将困惑光刻机行业八年，给了BSEC成长的机会，不然重生者也无能为力。

BSEC的突破点就是赶在ASML之前率先研制成功世界上第一台193nm波长的浸没式光刻机！

孙健所有的运作就是围绕这个突破点！

EUV光刻机太过复杂，即使投入巨资研发成功EUV光源，但对相关的光学系统、光刻胶、掩膜版等设备和材料的要求太过苛刻，需要十万个零件，据说前世有五千多家生产商为EUV光刻机供货，重生者还不敢付诸实践。

“孙董事长，BSEC能否不转让磁悬浮式双工作台系统专利给Nikon？”

拥有了BSEC的磁悬浮式双工作台系统专利的终身授权，GCA光刻机光学精密设备研究所升级改造，只要研制成功适应800nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统（不能出售和转让专利技术），GCA光刻机的制程工艺就有可能达到500nm，达到Nikon光刻机的制程工艺，购买休斯电子材料公司（AEMC）生产的8英寸晶圆，还能提高35%左右的产能。

有了磁悬浮式双工作台系统和蔡司公司的光学系统，Gikon重新争夺高端光刻机市场份额的资本。

但前提是BSE。